Une technique simple pour mesurer l'épaisseur et l'indice de réfraction de couches transparentes sans les altérer

Abstract
A simple non-destructive method of measuring the refractive index and thickness of transparent films on reflective substrates has been developed. The technique involves the use of a microscope equipped with a monochromatic filter and a stage that can be rotated so that the reflected light is observed at various angles. The technique can be used for the détermination of film thicknesses from several hundred angstroms up to several microns with accuracies of 0.2 % on films thicker than 2 μ, and tens of angstroms on thinner films.

Résumé
On expose une méthode non destructive et simple pour mesurer l'indice de réfraction et l'épaisseur de couches transparentes sur des supports réfléchissants. La technique nécessite l'emploi d'un microscope équipé d un filtre monochromatique et d un ensemble qui peut tourner de telle sorte que la lumière réfléchie soit observée suivant des angles différents. On peut utiliser cette technique dans la détermination de l'épaisseur de couches de quelques centaines d'angstrôms à plusieurs microns avec des précisions de 0,2 % par les épaisseurs supérieures à 2 μ et d'une dizaine d'angströms pour les plus faibles.