J. Phys. France 42, 559-564 (1981)
DOI: 10.1051/jphys:01981004204055900

Dielectric measurements of adsorbed krypton on lamellar halides

J.P. Laheurte, J.C. Noiray, M. Obadia et J.P. Romagnan

Laboratoire de Physique de la Matière Condensée, Université de Nice, Parc Valrose, 06034 Nice, France

Abstract
We present simultaneous measurements of adsorption isotherms and dielectric isotherms for krypton on lamellar halides. The comparison between the two isotherms shows that dielectric method is well adapted to characterize the multilayer formation. The evolution of dielectric properties from a two-dimensional system towards the bulk is also obtained.

Résumé
Les isothermes d'adsorption et les isothermes diélectriques pour le krypton adsorbé sur des halogénures lamellaires ont été mesurées simultanément. La comparaison entre les deux isothermes montre que la méthode diélectrique est bien adaptée pour caractériser la formation des multicouches. L'evolution des propriétés diélectriques d'un système bi-dimensionnel vers le système tri-dimensionnel est également obtenue.

PACS
6843M - Adsorption/desorption kinetics.
7755 - Dielectric thin films.
7790 - Other topics in dielectrics, piezoelectrics, and ferroelectrics and their properties.

Key words
adsorbed layers -- dielectric properties of solids -- krypton