J. Phys. France 51, 1987-2003 (1990)
DOI: 10.1051/jphys:0199000510170198700

Déplacement par le xénon, du film d'hexafluorure de soufre préalablement adsorbé sur la face (0001) du graphite

J. Menaucourt¹ et C. Bockel<sup>2

1</sup>  CNRS, Laboratoire Maurice Letort , rue de Vandoeuvre, 54600 Villers-les-Nancy, France
²  Université de Nancy I, Institut Universitaire de Technologie, Département Génie Chimique, rue du Montet, 54600 Villers-les-Nancy, France

Abstract
Physisorption of xenon on the (0001) graphite previously covered with sulfur hexafluoride (SF6) has been studied between 80 and 112 K by a volumetric method. Xenon adsorption is strongly hindered by pre-adsorbed SF6 and becomes significant only under pressures definitively higher than on bare graphite. Xenon adsorption leads to the displacement on the preadsorbed SF6 film according to a first order phase transition process. The dependence of the transition pressure on temperature can probably be related to the different structures of the SF6 film on bare graphite.

Résumé
La physisorption de xénon sur la face (0001) du graphite recouverte d'hexafluorure de soufre (SF6) également physisorbé a été étudiée par volumétrie entre 80 et 112 K. La présence de SF6 contrarie fortement l'adsorption de xénon. Celui-ci ne s'adsorbe de façon importante qu'à des pressions nettement plus élevées que sur graphite nu en déplaçant le film de SF6 au cours d'une transition de phase du premier ordre. L'évolution de la pression de la transition de déplacement avec la température est vraisemblablement liée aux différentes structures que présente le film de SF6 sur graphite nu.

PACS
6843M - Adsorption/desorption kinetics.
6835R - Phase transitions and critical phenomena.

Key words
adsorption -- graphite -- sulphur compounds -- surface phase transformations -- xenon