Resistivity saturation effect in thin V-Al alloy films

Abstract
The resistivity of the V-Al alloy films of various thicknesses and compositions was studied as a function of temperature. The films were evaporated using an electron gun in a vacuum of 10-5 Pa onto quartz substrates held at room temperature. The resistivity measurements were carried out in situ in vacuum of 10-8-10-6 Pa in the temperature range 300-830 K. It was found that the resistivity dependence on temperature was anomalous, i.e., the resistivity saturation effect occurred. An analysis of this effect was performed on the basis of the shunt resistance model.

Résumé
La résistivité de films minces d'alliage V-Al de diverses épaisseurs et compositions a été étudiée en fonction de la température. Les films ont été évaporés sous vide (10-5 Pa) à l'aide d'un canon à électrons sur des substrats de quartz maintenus à température ambiante. Les mesures de résistivité ont été effectuées in situ entre 300 et 380 K dans un vide de 10-8-10-6 Pa. Il a été observé une dépendance anormale de la résistivité en température sous forme d'une saturation. Cet effet a été analysé à l'aide d'un modèle de résistances en dérivation.