Numéro
J. Phys. France
Volume 27, Numéro 3-4, mars-avril 1966
Page(s) 133 - 141
DOI https://doi.org/10.1051/jphys:01966002703-4013300
J. Phys. France 27, 133-141 (1966)
DOI: 10.1051/jphys:01966002703-4013300

La conductivité électrique des couches microcristallines des métaux à conduction mixte (beryllium et plomb)

R. Grigorovici, A. Dévényi, T. Botila, C. Rusu et A. Vancu

Institut de Physique de l'Académie de la République Socialiste de Roumanie, Bucarest


Abstract
Microcrystalline continuous beryllium and lead films deposited by vacuum evaporation have a negative temperature coefficient of the resistance and anomalous values of the Hall and magnetoresistance constants. These anomalies are attributed to electrons thermically excited into the minima of the conduction band situated above the Fermi level.


Résumé
Les couches continues de béryllium et de plomb à très petits grains obtenues par évaporation sous vide présentent un coefficient de température de la résistance négatif, ainsi que des valeurs anormales de la constante de Hall et de la magnétorésistance. Ces anomalies sont attribuées aux électrons thermiquement excités qui se trouvent dans les minima de la bande de conduction situés au-dessus du niveau de Fermi.

PACS
7215 - Electronic conduction in metals and alloys.

Key words
conducting materials -- transport processes -- crystal properties -- Hall effect -- magnetism -- metals -- beryllium -- electrical conductivity -- films -- Hall effect -- lead -- magnetoresistance