Numéro |
J. Phys. France
Volume 25, Numéro 1-2, janvier-février 1964
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Page(s) | 285 - 290 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphys:01964002501-2028500 |
DOI: 10.1051/jphys:01964002501-2028500
Préparation, par évaporation sous vide, d'apodiseurs circulaires.
P. Giacomo1, B. Roizen-Dossier2 et S. Roizen21 Faculté des Sciences de Caen
2 Faculté des Sciences de Nancy
Abstract
Abstraet. - Description of a device for the preparation of thin metallic films the thickness of which varies along a radius. A study of the problems which occur and of the way they have been solved by the authors. Description of a circular apodiser thus obtained. Discussion of possible improvements and the utmost précision that should be attained for this particular purpose.
Résumé
Description d'un appareillage destiné à la préparation de couches métalliques minces dont l'épaisseur varie en fonction du rayon polaire en vue de la fabrication d'apodiseurs circulaires. Étude des problèmes qui se posent, et des solutions qui leur ont été apportées par les auteurs. Présentation d'un apodiseur ainsi réalisé. Discussion relative aux possibilités d'amélioration et à la précision limite utile.
4225F - Diffraction and scattering.
8115 - Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy.
0660 - Laboratory procedures.
Key words
light diffraction -- films -- laboratory techniques