Numéro |
J. Phys. France
Volume 43, Numéro 2, février 1982
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Page(s) | 279 - 283 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphys:01982004302027900 |
J. Phys. France 43, 279-283 (1982)
DOI: 10.1051/jphys:01982004302027900
Dépt. TIC/ROC, Centre National d'Etudes des Télécommunications, B.P. 40, 22301 Lannion, France
7920R - Atomic, molecular, and ion beam impact and interactions with surfaces.
Key words
sputtering
DOI: 10.1051/jphys:01982004302027900
Calcul exact de la fonction de distribution des ions incidents sur une cible dans le cas d'un plasma de pulvérisation
Y. Chouan et D. CollobertDépt. TIC/ROC, Centre National d'Etudes des Télécommunications, B.P. 40, 22301 Lannion, France
Abstract
In sputtering plasma, the sputtering rate depends upon the energy distribution of the ions that strike the target. Usually this function is intuitively determined. This paper describes the exact computation for this energy distribution.
Résumé
Dans un plasma de pulvérisation, la vitesse d'érosion de la cible dépend de la distribution en énergie des ions incidents. La formulation de cette fonction est toujours faite intuitivement Cet article décrit le calcul exact de cette distribution.
7920R - Atomic, molecular, and ion beam impact and interactions with surfaces.
Key words
sputtering