Numéro |
J. Phys. France
Volume 38, Numéro 8, août 1977
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Page(s) | 913 - 914 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphys:01977003808091300 |
DOI: 10.1051/jphys:01977003808091300
Processus de formation de plasmas sans électron
S. Avrillier et J.-P. SchermannLaboratoire de Physique des Lasers Université Paris X, 93430 Villetaneuse, France
Abstract
An electron-free plasma can be created, either directly by a pair-formation process, or by adding electronegative particles to a conventional plasma. After reviewing the different ion-pair formation and recombination processes, we compare the experimental properties of an electron-free plasma and of a negative ion-rich plasma obtained by electron attachment.
Résumé
Un plasma d'ions positifs et négatifs peut être formé, soit directement à l'aide de processus de formation de paires, soit indirectement par l'adjonction de particules électronégatives dans un plasma conventionnel, les électrons s'attachant pour donner des ions négatifs. Après avoir passé en revue les différents mécanismes de formation de paires d'ions et de recombinaison, on considère un exemple expérimental mettant en évidence les propriétés les plus caractéristiques d'un plasma sans électrons que l'on compare à celles des plasmas à forte proportion d'ions négatifs obtenus par attachement électronique.
5250 - Plasma production and heating.
Key words
plasma production