Influence des caractéristiques du plasma initiateur sur la formation des couches minces d'oxydes de cuivre dans la pulvérisation cathodique réactive

Abstract
Thin layers of copper oxides are prepared by condensation on fused quartz in a weakly ionized argon-oxygen plasma, of products initiated by cathode sputtering. The influence of discharge potential, and characteristics of the plasma, upon the nature of the layers are studied.

Résumé
Des couches minces d'oxydes de cuivre sont obtenues par condensation sur des supports en quartz des produits de réaction initiés dans des plasmas faiblement ionisés composés d'oxygène et d'argon, par pulvérisation cathodique de cuivre. On montre l'influence du plasma initiateur sur la nature des couches obtenues ainsi que le rôle du potentiel de décharge de la cathode.