Numéro
J. Phys. France
Volume 25, Numéro 1-2, janvier-février 1964
Page(s) 5 - 11
DOI https://doi.org/10.1051/jphys:01964002501-20500
J. Phys. France 25, 5-11 (1964)
DOI: 10.1051/jphys:01964002501-20500

Préparation et structure de couches minces d'oxypes de cuivre obtenues par pulvérisation cathodique réactive

Guy Perny, Bernard Laville-Saint-Martin, Pierre Roesler et Bernard Haller

Laboratoire de Physico-Chimie des Couches Minces Solides, École Supérieure de Chimie de Mulhouse


Abstract
Abstraet. - During the gas phase synthesis of thin layers of copper oxide by reactive cathodic sputtering of copper in an oxygen and argon atmosphere, mixed compounds of Cu2O and of CuO are generally formed. There is however a preponderance of Cu2O. Under certain experimental conditions only cuprous oxide is obtained ; probably at small partial oxygen pressures. The structure of the layers has been analysed by electron microdiffraction.


Résumé
Dans la synthèse en phase gazeuse de couches minces d'oxydes de cuivre par pulvérisation cathodique réactive de cuivre dans une atmosphère d'oxygène et d'argon, on aboutit généralement à la formation de composés mixtes de Cu2O et de CuO. La présence de Cu2O est toutefois fortement privilégiée. Dans des conditions expérimentales particulières, on n'obtient que de l'oxydule ; il semble que ce serait dans le cas des faibles pressions partielles d'oxygène. La structure des couches a été analysée par microdiffraction électronique.

PACS
8115C - Deposition by sputtering.

Key words
copper compounds -- films -- sputtering