Numéro
J. Phys. France
Volume 25, Numéro 1-2, janvier-février 1964
Page(s) 258 - 261
DOI https://doi.org/10.1051/jphys:01964002501-2025800
J. Phys. France 25, 258-261 (1964)
DOI: 10.1051/jphys:01964002501-2025800

Apparatus for the controlled deposition of multilayer films

Tsukasa Sawaki1, Minoru Iwata2, Shizuko Katsube2 et Kazuo Hara3

1  Research Laboratory, Matsushita Electronics Corporation, Takatsuki, Osaka, Japan
2  Government Industrial Research Institute, Ikeda, Osaka, Japan
3  Vacuum Optics Corporation of Japan, Higashi-togoshi 1, Sinagawa, Tokyo, Japan


Abstract
A simple and stable apparatus for the controlled deposition of multilayer films in vacuo is described. In order to compare transmittance or reflectance of a multilayer film at two wavelength bands, the apparatus is equipped with a modulated light beam, two interference filters, two photo-tubes with amplifiers and a differential amplifier. The apparatus has been used in a wavelength range from the ultraviolet to the near infrared with suitable adaptation of the light source and the photo-tubes. Reproducibility of the deposition was ± λ0/65 for the narrow band-pass filter of a thirteen-layer film.


Résumé
On décrit un appareillage simple et stable pour contrôler la préparation de couches multiples sous vide. De façon à comparer les facteurs de transmission ou de réflexion d'une couche multiple pour deux longueurs d'onde, on utilise un faisceau lumineux modulé, deux filtres interférentiels, deux photomultiplicateurs avec amplificateurs et un amplificateur différentiel. On a utilisé l'appareil dans un domaine de longueur d'onde s'étendant de l'ultraviolet au proche infrarouge, et on a adapté de manière convenable la source lumineuse et le photomultiplicateur. La reproductibilité des dépôts était de ± λ0/65 pour le filtre à bande étroite d'un film à 13 couches.

PACS
4279W - Optical coatings.
0660 - Laboratory procedures.

Key words
laboratory techniques -- optical films