J. Phys. France 51, 2449-2463 (1990)
DOI: 10.1051/jphys:0199000510210244900

Etude comparative de la photodissolution de l'argent dans les films minces de GeSex obtenus par évaporation flash et dépôt PECVD

J. Calas, R. El-Ghrandi et G. Galibert

Groupe d'Etude des Semiconducteurs, Université des Sciences et Techniques du Languedoc, Place E. Bataillon, 34095 Montpellier Cedex, France

Abstract
This work compares the Ag photodissolution in the GeSex glassy thin films elaborated from flash evaporation and from Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) : the investigated composition range x runs from 3 to 5.5. The manufacturing of these thin films and their optical and electrical caracterization are also given. Measurements of the reflectivity versus time during photodissolution are compared to the theoretical « step-like » multilayer model. The composition GeSe4 from PECVD technics seems to be the most suitable for the VLSI microlithography.

Résumé
Le but de ce travail est une étude comparative de la photodissolution de l'Ag dans le GeSex pour des échantillons obtenus par évaporation flash et des échantillons déposés par PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) et ceci pour différentes valeurs de x (3 < x < 5). Cette étude porte sur la fabrication des différentes couches minces, leur caractérisation optique et électrique, la mesure de la réflectivité R(t) en fonction du temps lors de la photodissolution de l'argent et la comparaison de ces mesures avec le modèle théorique proposé. Les conclusions permettent alors d'affirmer que le GeSe4 obtenu par dépôt PECVD, du fait de son homogénéité pour de grandes dimensions et de la cinétique observée a le meilleur profil pour une application en microlithographie industrielle.

PACS
8115G - Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.).
6475 - Solubility, segregation, and mixing; phase separation.
7361E - III-V semiconductors.
7280N - Disordered solids.

Key words
chalcogenide glasses -- dissolving -- germanium compounds -- plasma CVD -- reflectivity -- semiconductor growth -- semiconductor thin films -- silver -- vacuum deposition