Numéro
J. Phys. France
Volume 47, Numéro 11, novembre 1986
Page(s) 1951 - 1960
DOI https://doi.org/10.1051/jphys:0198600470110195100
J. Phys. France 47, 1951-1960 (1986)
DOI: 10.1051/jphys:0198600470110195100

Approach tq complete wetting in 4He-3He binary liquid mixtures

D. Sornette et J.P. Laheurte

Laboratoire de Physique de la Matière Condensée, associé au CNRS (UA 190), Université de Nice, Parc Valrose, 06034 Nice Cedex, France


Abstract
We reanalyse an experimental work, including some unpublished results, on the adsorption of 4He atoms on a substrate in a 4He- 3He mixture. We verify with remarkable accuracy the powerlaw dependence of the 4He adsorption thickness as a function of the distance AT to coexistence : e = C1/ (ΔT) 1/3, for thicknesses e ranging from 20 to 80 Å (5 to 20 atomic layers). The analysis is made possible by the great purity of the sample and the accuracy ( < 1 Å) of the capacitive experimental method. The coefficient C 1 and correction to the leading behaviour are derived using both a thermodynamic model and the Cahn approach.


Résumé
Nous réanalysons un travail expérimental, incluant des résultats non publiés, sur l'adsorption d'atomes d'4He sur un substrat baigné par un mélange de 4He-3He. Nous vérifions avec une précision remarquable la loi e = C1/ (ΔT) 1/3 donnant l'épaisseur d'4He adsorbé en fonction de l'écart Δ T à la coexistence, pour des épaisseurs e variant de 20 à 80 Å (5 à 20 couches atomiques). L'analyse est rendue possible grâce à la grande pureté de l' échantillon et la precision de la méthode expérimentale. Le coefficient C1 et les corrections au comportement principal de e (Δ T) sont obtenus à l'aide d'un modèle thermodynamique et de l'approche de Cahn.

PACS
6760 - Mixed systems; liquid 3He, 4He mixtures.

Key words
Liquid helium 3-4 mixtures -- Adsorption -- Thickness -- Thermodynamic model