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J. Phys. France
Volume 29, Numéro 11-12, novembre-décembre 1968
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| Page(s) | 1019 - 1023 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphys:019680029011-120101900 | |
J. Phys. France 29, 1019-1023 (1968)
DOI: 10.1051/jphys:019680029011-120101900
Laboratoire de Physique des Solides (2), Faculté des Sciences, 91-Orsay
7210D - Scattering by phonons, magnons, and other nonlocalized excitations.
Key words
Electrical conductivity -- Electron phonon interaction -- Two phonon process -- Ionic potential -- Thomas-Fermi model
DOI: 10.1051/jphys:019680029011-120101900
Résistivité associée au processus à deux phonons
Marc NattaLaboratoire de Physique des Solides (2), Faculté des Sciences, 91-Orsay
Abstract
Using a Debye model for phonons, free electrons for the conduction band, and Thomas-Fermi ionic potentials, we can estimate, in the Nordheim approximation, the importance of the two-phonon term compared to the one-phonon term usually considered in high temperature resistivity.
Résumé
Dans un modèle de Debye pour les phonons, d'électrons libres pour la bande de conduction et de Thomas-Fermi pour les potentiels ioniques, on peut estimer les importances relatives des termes à deux phonons et à un phonon, quant aux effets sur la résistivité à haute température.
7210D - Scattering by phonons, magnons, and other nonlocalized excitations.
Key words
Electrical conductivity -- Electron phonon interaction -- Two phonon process -- Ionic potential -- Thomas-Fermi model